163. Growth of sputtered vs evaporated metal films | Библиотечно-издательский комплекс СФУ

Страница публикации Публикация в OpenAlex

Год издания: 1967

Издательство: Elsevier BV

Источник: Vacuum

Ключевые слова: Copper Interconnects and Reliability

Показать дополнительные сведения

Библиотека

Издательство

Режим работы

Библиотека для читателей:

Будние дни	9:00–19:00
Суббота	9:00–17:00
Воскресенье	выходной день

Подразделения:

8:30–17:00 (обед 12:30–13:00), пн-пт

Контакты

Единый телефон	+7 (391) 291-25-74
Библиотека	+7 (391) 206-21-06
Издательство	+7 (391) 206-25-88
E-mail	bik [at] sfu-kras.ru
Адрес	пр. Свободный, 79/10