Перейти к основному содержанию
Библиотечно-издательский комплекс СФУ
Toggle navigation
Ресурсы
Библиотечный поиск
Каталог изданий университета
Университетские информационные ресурсы
Российские информационные ресурсы
Мировые информационные ресурсы
Периодические издания
Тематические путеводители
Книгообеспеченность учебного процесса
Приобретение литературы
Читателю
Регистрация читателей
Получение и возврат литературы
Межбиблиотечный абонемент
Тематические путеводители
Обучение работе с ресурсами
Доступная среда библиотеки
Детская развивающая площадка
Подарить книгу библиотеке
Автору
Правила издания рукописей
План выпуска изданий
Размещение публикаций в библиотеке, репозитории, РИНЦ
Проверка
журнала
Служба поддержки публикационной
активности
Учёт публикаций в АИС
«Прометей»
Услуги
Справочник услуг и сервисов БИК
Новая заявка на услугу
Бронирование помещений
Контакты
Адреса и режим работы
Контакты
Вопрос-Ответ
Отправить отзыв
Ещё
О Научной библиотеке
Об Издательстве
Дилерство «САБ ИРБИС»
Красноярский ИРБИС-клуб
Литературный клуб «Высокий берег»
Подкаст «Пища для ума»
Вакансии
Часто задаваемые вопросы
Мобильное приложение
Карта сайта и поиск по сайту
Онлайн-медиа Научной библиотеки
Личный кабинет
Главная
Ресурсы
Библиотечный поиск
Effect of balanced
and unbalanced
magnetron sputtering
processes on the
properties of SnO2
thin films
Gauri Shanker
P. Prathap
K.M.K. Srivatsa
2019 год
Effect of balanced and unbalanced magnetron sputtering processes on the properties of SnO2 thin films
статья из журнала
Страница публикации
Публикация в OpenAlex
Год издания:
2019
Авторы:
Gauri Shanker
,
P. Prathap
,
K.M.K. Srivatsa
,
Preetam Singh
Издательство:
Elsevier BV
Источник:
Current Applied Physics
Ключевые слова:
Gas Sensing Nanomaterials and Sensors, ZnO doping and properties, Transition Metal Oxide Nanomaterials
Показать дополнительные сведения
DOI:
https://doi.org/10.1016/j.cap.2019.03.016
Открытый доступ:
closed
Том:
19
Выпуск:
6
Страницы:
697–703