Перейти к основному содержанию
Библиотечно-издательский комплекс СФУ
Toggle navigation
Ресурсы
Библиотечный поиск
Каталог изданий университета
Университетские информационные ресурсы
Российские информационные ресурсы
Мировые информационные ресурсы
Периодические издания
Тематические путеводители
Книгообеспеченность учебного процесса
Приобретение литературы
Читателю
Регистрация читателей
Получение и возврат литературы
Межбиблиотечный абонемент
Тематические путеводители
Обучение работе с ресурсами
Доступная среда библиотеки
Детская развивающая площадка
Подарить книгу библиотеке
Автору
Правила издания рукописей
План выпуска изданий
Размещение публикаций в библиотеке, репозитории, РИНЦ
Проверка
журнала
Служба поддержки публикационной
активности
Учёт публикаций в АИС
«Прометей»
Услуги
Справочник услуг и сервисов БИК
Новая заявка на услугу
Бронирование помещений
Контакты
Адреса и режим работы
Контакты
Вопрос-Ответ
Отправить отзыв
Ещё
О Научной библиотеке
Об Издательстве
Дилерство «САБ ИРБИС»
Красноярский ИРБИС-клуб
Литературный клуб «Высокий берег»
Подкаст «Пища для ума»
Вакансии
Часто задаваемые вопросы
Мобильное приложение
Карта сайта и поиск по сайту
Онлайн-медиа Научной библиотеки
Личный кабинет
Главная
Ресурсы
Библиотечный поиск
A simple multistep
etched termination
technique for 4H-SiC
GTO thyristors
Zhiqiang Li
Kun Zhou
Lin Zhang
2018 год
A simple multistep etched termination technique for 4H-SiC GTO thyristors
статья из журнала
Страница публикации
Публикация в OpenAlex
Год издания:
2018
Авторы:
Zhiqiang Li
,
Kun Zhou
,
Lin Zhang
,
Xingliang Xu
,
Lianghui Li
,
Jun‐Tao Li
,
Gang Dai
Издательство:
Elsevier BV
Источник:
Solid-State Electronics
Ключевые слова:
Silicon Carbide Semiconductor Technologies, Electrostatic Discharge in Electronics, HVDC Systems and Fault Protection
Показать дополнительные сведения
DOI:
https://doi.org/10.1016/j.sse.2018.10.013
Открытый доступ:
closed
Том:
151
Страницы:
1–5