1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
Ab initiophotodynamics ofmodel EUVphotoresists Jan ChalabalaOndřej DvořákPetr Slavı́ček2018 год

Ab initio photodynamics of model EUV photoresists
статья из журнала

Страница публикацииПубликация в OpenAlex
Год издания: 2018
Авторы: Jan Chalabala, Ondřej Dvořák, Petr Slavı́ček
Издательство: Elsevier BV
Источник: Chemical Physics
Ключевые слова: Advancements in Photolithography Techniques, Ion-surface interactions and analysis, Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques