1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
Ionized physicalvapor deposition(IPVD): A review oftechnology andapplications Ulf HelmerssonMartina LattemannJohan Böhlmark2006 год

Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications

Полный текстСтраница публикацииПубликация в OpenAlex
Год издания: 2006
Авторы: Ulf Helmersson, Martina Lattemann, Johan Böhlmark, Arutiun P. Ehiasarian, Jón Tómas Guðmundsson
Издательство: Elsevier BV
Источник: Thin Solid Films
Ключевые слова: Metal and Thin Film Mechanics, Diamond and Carbon-based Materials Research, Semiconductor materials and devices
Другие ссылки: Thin Solid Films (HTML)
KTH Publication Database DiVA (KTH Royal Institute of Technology) (PDF)
KTH Publication Database DiVA (KTH Royal Institute of Technology) (HTML)