1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
Study on resistsensitivities fornano-scale imagingusing water windowX-ray microscopy Tomoko GowaTomohiro TakahashiAkihiro Oshima2010 год

Study on resist sensitivities for nano-scale imaging using water window X-ray microscopy
статья из журнала

Страница публикацииПубликация в OpenAlex
Год издания: 2010
Авторы: Tomoko Gowa, Tomohiro Takahashi, Akihiro Oshima, Seiichi Tagawa, Masakazu Washio
Издательство: Elsevier BV
Источник: Radiation Physics and Chemistry
Ключевые слова: Advancements in Photolithography Techniques, Advanced X-ray Imaging Techniques, Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques