Перейти к основному содержанию
Библиотечно-издательский комплекс СФУ
Toggle navigation
Ресурсы
Библиотечный поиск
Каталог изданий университета
Университетские информационные ресурсы
Российские информационные ресурсы
Мировые информационные ресурсы
Периодические издания
Тематические путеводители
Книгообеспеченность учебного процесса
Приобретение литературы
Читателю
Регистрация читателей
Получение и возврат литературы
Межбиблиотечный абонемент
Тематические путеводители
Обучение работе с ресурсами
Доступная среда библиотеки
Детская развивающая площадка
Подарить книгу библиотеке
Автору
Правила издания рукописей
План выпуска изданий
Размещение публикаций в библиотеке, репозитории, РИНЦ
Проверка
журнала
Служба поддержки публикационной
активности
Учёт публикаций в АИС
«Прометей»
Услуги
Справочник услуг и сервисов БИК
Новая заявка на услугу
Бронирование помещений
Контакты
Адреса и режим работы
Контакты
Вопрос-Ответ
Отправить отзыв
Ещё
О Научной библиотеке
Об Издательстве
Дилерство «САБ ИРБИС»
Красноярский ИРБИС-клуб
Литературный клуб «Высокий берег»
Подкаст «Пища для ума»
Вакансии
Часто задаваемые вопросы
Мобильное приложение
Карта сайта и поиск по сайту
Онлайн-медиа Научной библиотеки
Личный кабинет
Главная
Ресурсы
Библиотечный поиск
Recent advances in
silicon etching for
MEMS using the ASE™
process
A. Hynes
Hamza Ashraf
Jy Bhardwaj
1999 год
Recent advances in silicon etching for MEMS using the ASE™ process
статья из журнала
Страница публикации
Публикация в OpenAlex
Год издания:
1999
Авторы:
A. Hynes
,
Hamza Ashraf
,
Jy Bhardwaj
,
J. Hopkins
,
Ian W. Johnston
,
Jennifer N. Hanson Shepherd
Издательство:
Elsevier BV
Источник:
Sensors and Actuators A Physical
Ключевые слова:
Advanced MEMS and NEMS Technologies, Advanced Surface Polishing Techniques, Plasma Diagnostics and Applications
Показать дополнительные сведения
DOI:
https://doi.org/10.1016/s0924-4247(98)00326-4
Открытый доступ:
closed
Том:
74
Выпуск:
1-3
Страницы:
13–17