Перейти к основному содержанию
Библиотечно-издательский комплекс СФУ
Toggle navigation
Ресурсы
Библиотечный поиск
Каталог изданий университета
Университетские информационные ресурсы
Российские информационные ресурсы
Мировые информационные ресурсы
Периодические издания
Тематические путеводители
Книгообеспеченность учебного процесса
Приобретение литературы
Читателю
Регистрация читателей
Получение и возврат литературы
Межбиблиотечный абонемент
Тематические путеводители
Обучение работе с ресурсами
Доступная среда библиотеки
Детская развивающая площадка
Подарить книгу библиотеке
Автору
Правила издания рукописей
План выпуска изданий
Размещение публикаций в библиотеке, репозитории, РИНЦ
Проверка
журнала
Служба поддержки публикационной
активности
Учёт публикаций в АИС
«Прометей»
Услуги
Справочник услуг и сервисов БИК
Новая заявка на услугу
Бронирование помещений
Контакты
Адреса и режим работы
Контакты
Вопрос-Ответ
Отправить отзыв
Ещё
О Научной библиотеке
Об Издательстве
Дилерство «САБ ИРБИС»
Красноярский ИРБИС-клуб
Литературный клуб «Высокий берег»
Подкаст «Пища для ума»
Вакансии
Часто задаваемые вопросы
Мобильное приложение
Карта сайта и поиск по сайту
Онлайн-медиа Научной библиотеки
Личный кабинет
Главная
Ресурсы
Библиотечный поиск
Nitrogen-doped plasma
enhanced chemical
vapor deposited
(PECVD) amorphous
carbon: processes and
properties
Steven M. Smith
S. Voight
Harland G. Tompkins
2001 год
Nitrogen-doped plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) amorphous carbon: processes and properties
статья из журнала
Страница публикации
Публикация в OpenAlex
Год издания:
2001
Авторы:
Steven M. Smith
,
S. Voight
,
Harland G. Tompkins
,
Andy Hooper
,
A. Alec Talin
,
Joseph B. Vella
Издательство:
Elsevier BV
Источник:
Thin Solid Films
Ключевые слова:
Diamond and Carbon-based Materials Research, Metal and Thin Film Mechanics, Semiconductor materials and devices
Показать дополнительные сведения
DOI:
https://doi.org/10.1016/s0040-6090(01)01425-0
Открытый доступ:
closed
Том:
398-399
Страницы:
163–169