Перейти к основному содержанию
Библиотечно-издательский комплекс СФУ
Toggle navigation
Ресурсы
Библиотечный поиск
Каталог изданий университета
Университетские информационные ресурсы
Российские информационные ресурсы
Мировые информационные ресурсы
Периодические издания
Тематические путеводители
Книгообеспеченность учебного процесса
Приобретение литературы
Читателю
Регистрация читателей
Получение и возврат литературы
Межбиблиотечный абонемент
Тематические путеводители
Обучение работе с ресурсами
Доступная среда библиотеки
Детская развивающая площадка
Подарить книгу библиотеке
Автору
Правила издания рукописей
План выпуска изданий
Размещение публикаций в библиотеке, репозитории, РИНЦ
Проверка
журнала
Служба поддержки публикационной
активности
Учёт публикаций в АИС
«Прометей»
Услуги
Справочник услуг и сервисов БИК
Новая заявка на услугу
Бронирование помещений
Контакты
Адреса и режим работы
Контакты
Вопрос-Ответ
Отправить отзыв
Ещё
О Научной библиотеке
Об Издательстве
Дилерство «САБ ИРБИС»
Красноярский ИРБИС-клуб
Литературный клуб «Высокий берег»
Подкаст «Пища для ума»
Вакансии
Часто задаваемые вопросы
Мобильное приложение
Карта сайта и поиск по сайту
Онлайн-медиа Научной библиотеки
Личный кабинет
Главная
Ресурсы
Библиотечный поиск
Technological
variation in the
earliest Oldowan from
Gona, Afar, Ethiopia
Dietrich Stout
Sileshi Semaw
Michael Rogers
2010 год
Technological variation in the earliest Oldowan from Gona, Afar, Ethiopia
статья из журнала
Страница публикации
Публикация в OpenAlex
Год издания:
2010
Авторы:
Dietrich Stout
,
Sileshi Semaw
,
Michael Rogers
,
Dominique Cauche
Издательство:
Elsevier BV
Источник:
Journal of Human Evolution
Ключевые слова:
Pleistocene-Era Hominins and Archaeology, Ancient Egypt and Archaeology, Archaeology and ancient environmental studies
Другие ссылки:
Journal of Human Evolution
(HTML)
HAL (Le Centre pour la Communication Scientifique Directe)
(HTML)
HAL (Le Centre pour la Communication Scientifique Directe)
(HTML)
PubMed
(HTML)
Показать дополнительные сведения
DOI:
https://doi.org/10.1016/j.jhevol.2010.02.005
Открытый доступ:
closed
Том:
58
Выпуск:
6
Страницы:
474–491