Аналитическая оценка параметров оптоэлектронных устройств на основе ФТИРОСстатья из журнала
Похожие документы
Behavior of Silicon Impurity During Plasma Alloying of Aluminum with Boron
- Churilov Grigory и др.
- 2025 год
Моделирование группировки электронного пучка с помощью структур с изменяющейся диэлектрической проницаемостью
- Байбурин В. Б. и др.
- 2018 год
Критические параметры электронных лавин в воздухе в сильных однородных полях
- Белогловский Андрей Анатольевич и др.
- 2021 год
Влияние эффекта Холла на структуру токового слоя в канале линейного МГД-ускорителя
- Кузоватов Игорь и др.
- 2011 год
Свойства нанокомпозитных материалов на основе оксидной керамики, полученных искро-плазменным методом
- Алварез Э. и др.
- 2014 год
Вакуумно-дуговые нанокристаллические покрытия на основе нитрида титана
- Латушкина С. Д. и др.
- 2014 год


