1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
  4. Журнал Сибирского федерального университета. Техника и технологии
  5. Выпуск 2012 г. Том 5. № 4
Физико-химическиеосновы взаимодействияприсадочныхкомпонентов свольфрамовымиангидридами Колмакова Л. П.Ковтун О. Н.Довженко Н. Н.2012 год

Физико-химические основы взаимодействия присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами
статья из журнала

Полный текстЗаказать копию статьи
База данных: Каталог библиотеки СФУ (К 608)
Библиографическое описание: Колмакова, Л. П. Физико-химические основы взаимодействия присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами = Physicochemical Foundation of Interaction of Doped Components with Tungsten Anhydrides / Л. П. Колмакова, О. Н. Ковтун, Н. Н. Довженко. - Текст : непосредственный // Журнал Сибирского федерального университета. Техника и технологии. - 2012. - Т. 5, № 4. - С. 472-483 : ил. - Библиогр.: с. 481-482 (30 назв.). - ISSN 1999-494X.
Аннотация: Приведены физико-химические закономерности взаимодействия щелочного и кислого силикатных растворов присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами. Предложенная технология пропитки промышленного синего оксида вольфрама кислым алюмосиликатным раствором позволяет получать вольфрамовую проволоку с высокой эффективностью.
Год издания: 2012
Авторы: Колмакова Л. П. , Ковтун О. Н. , Довженко Н. Н.
Источник: Журнал Сибирского федерального университета. Техника и технологии
Выпуск: Т. 5, № 4
Номера страниц: 472-483
Количество экземпляров:

Всего свободно 4 из 4 экземпляров.

  • Отдел научно-библиографической работы (пр. Свободный, 79, к. Б3-10): свободно 1 из 1 экземпляров
  • Отдел формирования информационно-библиотечных ресурсов (пр. Свободный, 79, к. Б2-20): свободно 1 из 1 экземпляров
  • Книгохранилище научной литературы (пр. Свободный, 79, 3 этаж): свободно 1 из 1 экземпляров
  • Читальный зал военных наук (Академгородок, 13А, к. 1-01): свободно 1 из 1 экземпляров