Библиографическое описание:Efremov, A. M. Plasma parameters and SiO[2] etching kinetics in C[4]F[8] + Ar + O[2] gas mixture = Параметры плазмы и кинетика травления SiO[2] в смеси C[4]F[8] + Ar + O[2] / A. M. Efremov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2020. - Т. 63, вып. 6. - С. 37-43 : 2 рис., 2 табл. - Библиогр.: с. 43 (24 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация:Проведено исследование влияния соотношения Ar/O[2] на параметры плазмы, стационарные концентрации активных частиц и кинетику травления SiO[2] в трехкомпонентной смеси C[4]F[8]+Ar+O[2] в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления. (Алгоритм исследования сочетал измерения скоростей травления, диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерную модель плазмы для получения данных по стационарным концентрациям и плотностям потоков активных частиц).
