Библиографическое описание:Efremov, A. M. Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture = Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси С[4]F[8]+Ar / A. M. Efremov, D. B. Murin, K. H. Kwon. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2019. - Т. 62, вып. 2. - С. 31-37 : 4 рис. - Библиогр.: с. 36-37 (24 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация:В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO[2] в плазме смеси C[4]F[8] + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C[4]F[8]/Ar варьировалось в диапазоне 0-75% Ar.
