1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
  4. Журнал «Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология»
  5. Выпуск 2016 г. Том 59. № 10
Сравнительноеисследованиепараметров и составаплазмы в смесяхCF[4], CI[2] и HBr +Ar Ефремов Александр МихайловичKwon К. Н.Шабадарова Дария Александровна2016 год

Сравнительное исследование параметров и состава плазмы в смесях CF[4], CI[2] и HBr + Ar
статья из журнала

Заказать копию статьи
База данных: Каталог библиотеки СФУ
Библиографическое описание: Ефремов, Александр Михайлович. Сравнительное исследование параметров и состава плазмы в смесях CF[4], CI[2] и HBr + Ar / А. М. Ефремов, К. Н. Kwon, Д. А. Шабадарова. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2016. - Т. 59, вып. 10. - С. 11-18 : 4 рис., 1 табл. - Библиогр.: с. 17-18 (34 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация: Обсуждаются электрофизические параметры и химия плазмы в системах CF[4] + Ar, CI[2] + Ar и HBr + Ar при одинаковых условиях возбуждения разряда. Исследования проводились методами диагностики плазмы зондами Лангмюра и моделированием плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора при постоянном давлении газа (10 мТор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (300 Вт), но при варьируемой (0-80%) более Ar плазмообразующей смеси.
Год издания: 2016
Авторы: Ефремов Александр Михайлович , Kwon К. Н. , Шабадарова Дария Александровна
Источник: Известия вузов. Химия и химическая технология
Выпуск: Т. 59, вып. 10
Номера страниц: 11-18
Количество экземпляров:
  • Абонемент научной литературы (пр. Свободный, 79, Б1-14): свободно 1 из 1 экземпляров

Похожие публикации

Электрофизическиепараметры плазмысмесей HCI+Ar, He,H[2], O[2], и CI[2] Ефремов А. М.Мурин Д. Б.2015 год

Электрофизические параметры плазмы смесей HCI+Ar, He, H[2], O[2], и CI[2]

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2015 год
Plasma parameters,densities of activespecies and etchingkinetics inC[4]F[8]+Ar gasmixture Efremov A. M.Murin D. B.Kwon K. H.2019 год

Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2019 год
Plasma parameters andSiO[2] etchingkinetics in C[4]F[8]+ Ar + O[2] gasmixture Efremov A. M.Betelin V. B.Kwang-Ho Kwon2020 год

Plasma parameters and SiO[2] etching kinetics in C[4]F[8] + Ar + O[2] gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2020 год
Электрофизическиепараметры плазмытлеющего разрядапостоянного тока всмесях HCI-O[2] Ефремов А. М.Давлятшина А. А.Светцов В. И.2012 год

Электрофизические параметры плазмы тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCI-O[2]

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2012 год
Plasma parameters andactive specieskinetics inCF[4]+C[4]F[8]+Ar gasmixture Efremov А. М.Мurin D. B.Kwang Ho Кwon2018 год

Plasma parameters and active species kinetics in CF[4]+C[4]F[8]+Ar gas mixture

  • Efremov А. М. и др.
  • 2018 год
Интенсивностиизлучения иконцентрации активныхчастиц в плазметлеющего разряда всмесях хлористоговодорода с… Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях…

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
Электрофизическиепараметры иконцентрациизаряженных частиц вплазме смесей метанас аргоном Ефремов А. М.Семенова О. А.Баринов С. М.2014 год

Электрофизические параметры и концентрации заряженных частиц в плазме смесей метана с аргоном

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2014 год
Вероятностигетерогеннойрекомбинации атомов вплазме смесей HCI синертными имолекулярными газами Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Вероятности гетерогенной рекомбинации атомов в плазме смесей HCI с инертными и молекулярными газами

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год

Показать ещё

Oxidative-reducingprocesses withparticipation ofmanganese ionsinitiated by electricdischarge in aqueоussolution Shutov D. A.Sungurova A. V.Smirnova K. V.2018 год

Oxidative-reducing processes with participation of manganese ions initiated by electric discharge…

  • Shutov D. A. и др.
  • 2018 год
Влияние процессовпереноса компонентовжидкого катода напроцессы ионизации вразряде постоянноготока атмосферного… Куленцан Антон ЛьвовичШутов Дмитрий АлександровичРыбкин Владимир Владимирович2017 год

Влияние процессов переноса компонентов жидкого катода на процессы ионизации в разряде постоянного…

  • Куленцан Антон Львович и др.
  • 2017 год
Влияние температурына скорость травленияи качествоповерхности GaAs приобработке в плазмеHCI-Ar, HCI-CI[2],HCI-H[2] Дунаев А. В.Пивоваренок С. А.Капинос С. П.2014 год

Влияние температуры на скорость травления и качество поверхности GaAs при обработке в плазме HCI…

  • Дунаев А. В. и др.
  • 2014 год
Сравнительныехарактеристикифизико-химических итермодинамическихпараметровнеорганическихпроизводных нитрилов Сырлыбаева Р. Р.Гусейнова С. Н.Мовсум-заде Н. Ч.2015 год

Сравнительные характеристики физико-химических и термодинамических параметров неорганических…

  • Сырлыбаева Р. Р. и др.
  • 2015 год
Кинетикавосстановления ионовникеля диоксидомтиомочевины вводно-аммиачномрастворе Поленов Ю. В.Егорова Е. В.Макарова Е. В2013 год

Кинетика восстановления ионов никеля диоксидом тиомочевины в водно-аммиачном растворе

  • Поленов Ю. В. и др.
  • 2013 год
Квантовохимическийрасчет молекулярных,термодинамических икинетическихпараметров радикаловCF, CF[2], CF[3] и… Барановский В. И.Скоробогатов Г. А.2016 год

Квантовохимический расчет молекулярных, термодинамических и кинетических параметров радикалов CF,…

  • Барановский В. И. и др.
  • 2016 год
Спектральноеисследование плазмытлеющего разряда вметане и его смесях саргоном Баринов С. М.Светцов В. И.Ефремов А. М.2013 год

Спектральное исследование плазмы тлеющего разряда в метане и его смесях с аргоном

  • Баринов С. М. и др.
  • 2013 год
Сравнительнаястойкость бетона сзаполнителями инаполнителями разногосостава Рахимбаев Шарк МатрасуловичТолыпина Наталья МаксимовнаТолыпин Даниил Александрович2018 год

Сравнительная стойкость бетона с заполнителями и наполнителями разного состава

  • Рахимбаев Шарк Матрасулович и др.
  • 2018 год