Электрофизическиепараметры плазмысмесей HCI+Ar, He,H[2], O[2], и CI[2] Ефремов А. М.Мурин Д. Б.2015 год

Электрофизические параметры плазмы смесей HCI+Ar, He, H[2], O[2], и CI[2]
статья из журнала

Заказать копию статьи
База данных: Каталог библиотеки СФУ (Е 924)
Библиографическое описание: Ефремов, А. М. Электрофизические параметры плазмы смесей HCI+Ar, He, H[2], O[2], и CI[2] / А. М. Ефремов, Д. Б. Мурин. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2015. - Т. 58, вып. 4. - С. 14-18 : 3 рис., 3 табл. - Библиогр.: с. 17-18 (10 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация: Проведено экспериментальное исследование и модельный анализ влияния начального состава бинарных смесей HCI+Ar, He, H[2], O[2], и CI[2] на стационарные электрофизические параметры плазмы и концентрации заряженных частиц в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Получены данные по температуре газа, приведенной напряженности электрического поля, средней энергии и концентрации электронов.
Год издания: 2015
Авторы: Ефремов А. М. , Мурин Д. Б.
Источник: Известия вузов. Химия и химическая технология
Выпуск: Т. 58, вып. 4
Номера страниц: 14-18
Количество экземпляров:
  • Абонемент научной литературы (пр. Свободный, 79, Б1-14): свободно 1 из 1 экземпляров

Похожие публикации

Электрофизическиепараметры иконцентрациизаряженных частиц вплазме смесей метанас аргоном Ефремов А. М.Семенова О. А.Баринов С. М.2014 год

Электрофизические параметры и концентрации заряженных частиц в плазме смесей метана с аргоном

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2014 год
Сравнительноеисследованиепараметров и составаплазмы в смесяхCF[4], CI[2] и HBr +Ar Ефремов Александр МихайловичKwon К. Н.Шабадарова Дария Александровна2016 год

Сравнительное исследование параметров и состава плазмы в смесях CF[4], CI[2] и HBr + Ar

  • Ефремов Александр Михайлович и др.
  • 2016 год
Влияние температурына скорость травленияи качествоповерхности GaAs приобработке в плазмеHCI-Ar, HCI-CI[2],HCI-H[2] Дунаев А. В.Пивоваренок С. А.Капинос С. П.2014 год

Влияние температуры на скорость травления и качество поверхности GaAs при обработке в плазме HCI…

  • Дунаев А. В. и др.
  • 2014 год
Интенсивностиизлучения иконцентрациинейтральных частиц вплазме тлеющегоразряда постоянноготока в смесяхHCI-H[2… Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного…

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
Вероятностигетерогеннойрекомбинации атомов вплазме смесей HCI синертными имолекулярными газами Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Вероятности гетерогенной рекомбинации атомов в плазме смесей HCI с инертными и молекулярными газами

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
О механизмахувеличения степенидиссоциации HCl вплазме тлеющегоразряда Ефремов Александр МихайловичМурин Дмитрий БорисовичБеляев Сергей Валерьевич2018 год

О механизмах увеличения степени диссоциации HCl в плазме тлеющего разряда

  • Ефремов Александр Михайлович и др.
  • 2018 год
Взаимодействие плазмысмесейхлороводород-аргон, -хлор, - водород сарсенидом галлия Дунаев А. В.Пивоваренок С. А.Мурин Д. Б.2014 год

Взаимодействие плазмы смесей хлороводород-аргон, - хлор, - водород с арсенидом галлия

  • Дунаев А. В. и др.
  • 2014 год
Электрофизическиепараметры плазмытлеющего разрядапостоянного тока всмесях HCI-O[2] Ефремов А. М.Давлятшина А. А.Светцов В. И.2012 год

Электрофизические параметры плазмы тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCI-O[2]

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2012 год

Показать ещё

Кинетика иконцентрациянейтральных частиц вплазме тлеющегоразряда постоянноготока в метане Семенова О. А.Ефремов А. М.Баринов С. М.2014 год

Кинетика и концентрация нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в метане

  • Семенова О. А. и др.
  • 2014 год
Plasma parameters andactive specieskinetics inCF[4]+C[4]F[8]+Ar gasmixture Efremov А. М.Мurin D. B.Kwang Ho Кwon2018 год

Plasma parameters and active species kinetics in CF[4]+C[4]F[8]+Ar gas mixture

  • Efremov А. М. и др.
  • 2018 год
Интенсивностиизлучения иконцентрации активныхчастиц в плазметлеющего разряда всмесях хлористоговодорода с… Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях…

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
Plasma parameters andcomposition inCF[4]/O[2]/Ar gasmixture Efremov A. M.Kwon Kwang-Ho2017 год

Plasma parameters and composition in CF[4]/O[2]/Ar gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2017 год
Plasma parameters andSiO[2] etchingkinetics in C[4]F[8]+ Ar + O[2] gasmixture Efremov A. M.Betelin V. B.Kwang-Ho Kwon2020 год

Plasma parameters and SiO[2] etching kinetics in C[4]F[8] + Ar + O[2] gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2020 год
Исследование влиянияпродуктов травленияпленки полиэтилена напараметрынеравновесной плазмывоздуха Кадников Д. В.Смирнов С. А.Рыбкин В. В.2015 год

Исследование влияния продуктов травления пленки полиэтилена на параметры неравновесной плазмы…

  • Кадников Д. В. и др.
  • 2015 год
Влияние тлеющегоразряда постоянноготока на адгезионные игидрофильные свойстваремонтного флизелина Федосов С. В.Акулова М. В.Таничев М. В.2013 год

Влияние тлеющего разряда постоянного тока на адгезионные и гидрофильные свойства ремонтного…

  • Федосов С. В. и др.
  • 2013 год
Plasma parameters,densities of activespecies and etchingkinetics inC[4]F[8]+Ar gasmixture Efremov A. M.Murin D. B.Kwon K. H.2019 год

Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2019 год