1. Главная
  2. Ресурсы
  3. Библиотечный поиск
  4. Журнал «Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология»
  5. Выпуск 2014 г. Том 57. № 7
Влияние температурына скорость травленияи качествоповерхности GaAs приобработке в плазмеHCI-Ar, HCI-CI[2],HCI-H[2] Дунаев А. В.Пивоваренок С. А.Капинос С. П.2014 год

Влияние температуры на скорость травления и качество поверхности GaAs при обработке в плазме HCI-Ar, HCI-CI[2], HCI-H[2]
статья из журнала

Заказать копию статьи
База данных: Каталог библиотеки СФУ
Библиографическое описание: Влияние температуры на скорость травления и качество поверхности GaAs при обработке в плазме HCI-Ar, HCI-CI[2], HCI-H[2] / А. В. Дунаев [и др.]. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2014. - Т. 57, вып. 7. - С. 50-53 : 3 рис., 1 табл. - Библиогр.: с. 52-53 (8 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация: Целью работы явилось исследование влияния температуры на процесс плазмо-химического травления GaAs в представленных смесях в условиях тлеющего разряда постоянного тока, а также качества поверхности образцов полупроводника после обработки данными смесями.
Год издания: 2014
Авторы: Дунаев А. В. , Пивоваренок С. А. , Капинос С. П. , Мурин Д. Б.
Источник: Известия вузов. Химия и химическая технология
Выпуск: Т. 57, вып. 7
Номера страниц: 50-53
Количество экземпляров:
  • Абонемент научной литературы (пр. Свободный, 79, Б1-14): свободно 1 из 1 экземпляров

Похожие публикации

Электрофизическиепараметры плазмысмесей HCI+Ar, He,H[2], O[2], и CI[2] Ефремов А. М.Мурин Д. Б.2015 год

Электрофизические параметры плазмы смесей HCI+Ar, He, H[2], O[2], и CI[2]

  • Ефремов А. М. и др.
  • 2015 год
Интенсивностиизлучения иконцентрациинейтральных частиц вплазме тлеющегоразряда постоянноготока в смесяхHCI-H[2… Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного…

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
Взаимодействие плазмысмесейхлороводород-аргон, -хлор, - водород сарсенидом галлия Дунаев А. В.Пивоваренок С. А.Мурин Д. Б.2014 год

Взаимодействие плазмы смесей хлороводород-аргон, - хлор, - водород с арсенидом галлия

  • Дунаев А. В. и др.
  • 2014 год
Сравнительноеисследованиепараметров и составаплазмы в смесяхCF[4], CI[2] и HBr +Ar Ефремов Александр МихайловичKwon К. Н.Шабадарова Дария Александровна2016 год

Сравнительное исследование параметров и состава плазмы в смесях CF[4], CI[2] и HBr + Ar

  • Ефремов Александр Михайлович и др.
  • 2016 год
Вероятностигетерогеннойрекомбинации атомов вплазме смесей HCI синертными имолекулярными газами Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Вероятности гетерогенной рекомбинации атомов в плазме смесей HCI с инертными и молекулярными газами

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год
Влияние растворителяи температуры наскоростьгидрогенизации2-хлор-4-нитроанилина Краснов А. И.Меркин А. А.Шаронов Н. Ю.2015 год

Влияние растворителя и температуры на скорость гидрогенизации 2-хлор-4-нитроанилина

  • Краснов А. И. и др.
  • 2015 год
Plasma parameters andSiO[2] etchingkinetics in C[4]F[8]+ Ar + O[2] gasmixture Efremov A. M.Betelin V. B.Kwang-Ho Kwon2020 год

Plasma parameters and SiO[2] etching kinetics in C[4]F[8] + Ar + O[2] gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2020 год
Интенсивностиизлучения иконцентрации активныхчастиц в плазметлеющего разряда всмесях хлористоговодорода с… Мурин Д. Б.Ефремов А. М.Светцов В. И.2013 год

Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях…

  • Мурин Д. Б. и др.
  • 2013 год

Показать ещё

Влияние тлеющегоразряда постоянноготока на адгезионные игидрофильные свойстваремонтного флизелина Федосов С. В.Акулова М. В.Таничев М. В.2013 год

Влияние тлеющего разряда постоянного тока на адгезионные и гидрофильные свойства ремонтного…

  • Федосов С. В. и др.
  • 2013 год
Plasma parameters andcomposition inCF[4]/O[2]/Ar gasmixture Efremov A. M.Kwon Kwang-Ho2017 год

Plasma parameters and composition in CF[4]/O[2]/Ar gas mixture

  • Efremov A. M. и др.
  • 2017 год

A Novel vanadium catalyst for oxidation of hydrogen chloride with dioxygen

  • Tarabanko V. E. и др.
  • 2009 год
Обратимые изменениякраевых n-электронныхсостояниймультислойныхграфеновыхнанокластеров подвлиянием… Зиатдинов Альберт МуктасимовичСаенко Никита СергеевичСкрыльник Петр Геннадьевич2016 год

Обратимые изменения краевых n-электронных состояний мультислойных графеновых нанокластеров под…

  • Зиатдинов Альберт Муктасимович и др.
  • 2016 год
Кинетическиезакономерноститравленияполикарбоната вплазме кислорода ивоздуха Овцын Александр АндреевичАртюхов Алексей ИвановичСмирнов Сергей Александрович2016 год

Кинетические закономерности травления поликарбоната в плазме кислорода и воздуха

  • Овцын Александр Андреевич и др.
  • 2016 год
Метод расчетареальныхкоэффициентовактивности ионов напримере ионовводорода и хлора вводных растворах HCL Федорова АнастасияАлександровнаШаронов Николай ЮрьевичФилиппов Дмитрий Вячеславович2017 год

Метод расчета реальных коэффициентов активности ионов на примере ионов водорода и хлора в водных…

  • Федорова Анастасия Александровна и др.
  • 2017 год
Кинетикагидрогенизации2-хлор-4-нитроанилинана нанесенныхплатиновых ипалладиевыхкатализаторах вводном растворе… Латыпова Адель РишатовнаКраснов Александр ИвановичШаронов Николай Юрьевич2018 год

Кинетика гидрогенизации 2-хлор-4-нитроанилина на нанесенных платиновых и палладиевых…

  • Латыпова Адель Ришатовна и др.
  • 2018 год
Исследование влиянияпродуктов травленияпленки полиэтилена напараметрынеравновесной плазмывоздуха Кадников Д. В.Смирнов С. А.Рыбкин В. В.2015 год

Исследование влияния продуктов травления пленки полиэтилена на параметры неравновесной плазмы…

  • Кадников Д. В. и др.
  • 2015 год