Библиографическое описание:Лазов, М. А. Определение стехиометрии и толщины ионно-синтезированных оксидных наноструктур вольфрама мотодом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии / М. А. Лазов, Н. В. Алов, А. А. Ищенко. - (Химия). - Текст : непосредственный // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2014. - Т. 57, вып. 2. - С. 25-29 : 3 рис., 1 табл. - Библиогр.: с. 29 (21 назв.). - ISSN 0579-2991.
Аннотация:При окислении вольфрама O[2]{+}, анализ рентгеновских фотоэлектронных спектров показал наличие оксидных форм W (IV), W (V), W (VI), которые были заданы в виде гомогенных слоев. Проведена деконволюция серии спектров окисления вольфрама с учетом линии малой интенсивности W 5р3/2 для повышения качества аппроксимации сложных спектров линии W 4F. Определены дозовые зависимости концентраций оксидов, вычислены толщины оксидных слоев, средняя степень окисления вольфрама и стехиометрия в окислительном слое и на всей анализируемой толщине образца.
