Библиографическое описание:Вакуумное ионно-плазменное оборудование для получения наноструктурных материалов : лаб. практикум / Сиб. федерал. ун-т ; сост.: А. А. Лепешев, А. В. Ушаков, И. В. Карпов. - Электрон. текстовые дан. (PDF, 1 Мб). - Красноярск : СФУ, 2012. - Загл. с титул. экрана. - Библиогр.: с. 28. - Текст : электронный.
Аннотация:В лабораторном практикуме приведены основные требования для выполнения лабораторных работ. Представлены основные сведения о вакуумных сильноточных плазменных технологических устройствах, о вакуумных технологических откачных устройствах, параметры дуговых разрядах низкого давления. Приведены примеры разработки технологических маршрутов для нанесения износостойких нанокристаллических покрытий в вакууме при помощи дугового разряда низкого давления. Предназначен для студентов и магистрантов по направлению 223200.68 «Техническая физика».
