Библиографическое описание:Исследование влияния особенностей конструкции установки магнетронного распыления на электрические и оптические свойства пленок оксида индия-олова / Д. А. Кудряшов, А. А. Максимова, Е. А. Вячеславова [и др.]. - (Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур). - Текст : непосредственный // Физика и техника полупроводников. - 2021. - Т. 55, вып. 4. - С. 360-364 : ил. - Библиогр.: с. 364 (17 назв.). - ISSN 0015-3222.
Аннотация:Показано влияние относительного расположения магнетрона и подложки на электрические и оптические свойства формирующегося слоя оксида индия-олова (ITO). Рассмотрены причины данного поведения и показана роль кислорода в возникновении неоднородности свойств пленок ITO. На спектрах поглощения при этом наблюдаются различия в форме коротковолновой области спектра. Добавление незначительного (0. 1 ст. см{3}/мин) количества кислорода в рабочую камеру в процессе роста оксида приводит к значительному повышению однородности электрических и оптических свойств ITO.
The influence of the relative position of the magnetron and the substrate on the electrical and optical properties of the resulting indium tin oxide (ITO) layer is shown. The reasons for this behavior are considered and the role of oxygen in the occurrence of inhomogeneity of the properties of ITO films is shown. In the absorption spectra, there are differences in the shape of the short-wave region of the spectrum. The addition of a small amount of oxygen (0. 1 st. cm{3}/min) to the working chamber during the growth of the oxide leads to a significant increase in the uniformity of the electrical and optical properties of the ITO.
