Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций : учебно-методическое пособие для студентов специальности 200100

Кожитов Л. В.; Крапухин В. В.; Улыбин В. А.

Доступ к полному тексту через .

База данных: Каталог библиотеки СФУ

Библиографическое описание: Кожитов, Л. В. Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций : учебно-методическое пособие для студентов специальности 200100 / Л. В. Кожитов, В. В. Крапухин, В. А. Улыбин. - Москва : МИСИС, 2001. - 158 с. - . Книга из коллекции МИСИС - Инженерно-технические науки. Рекомендовано редакционно-издательским советом института

Аннотация: Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑΙΠΒν и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов.

Год издания: 2001

Авторы: Кожитов Л. В., Крапухин В. В., Улыбин В. А.

Издательство: МИСИС, Москва

Количество страниц: 158

Количество экземпляров:

Издание имеется только в электронном виде

Показать дополнительные сведения

Цифровые и тематические книжные коллекции издания

Подписные книги из ЭБС "Лань"

Материалы и элементы электронной техники : Расчет режимов термического окисления и диффузии при…

Полисан А. А. и др.
2007 год