Открытый каталог публикаций OpenAlex 2 документа

• Optimization of an electron cyclotron resonance etch process using full wafer charge coupled device interferometry
  авторы: S. V. Pendharkar; Douglas J. Resnick; William J. Dauksher и др. год: 1997 источник: Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films тип: статья из журнала
  Страница публикацииПодробнее
• Review of resist-based flare measurement methods for extreme ultraviolet lithography
  авторы: Lei Sun; Obert R. Wood; Erik Verduijn и др. год: 2013 источник: Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS тип: статья из журнала
  Полный текстПодробнее