Применение дугового разряда для нанесения металлических наноразмерных пленокстатья из журнала
База данных: Каталог библиотеки СФУ (П 764)
Библиографическое описание: Применение дугового разряда для нанесения металлических наноразмерных пленок / В. А. Тупик, А. А. Потапов, В. И. Марголин, Д. К. Кострин. - (Наноструктурированные металлы и материалы). - Текст : непосредственный // Цветные металлы. - 2021. - № 6 (942). - С. 55-59 : схема, ил. - Библиогр.: с. 58 (20 назв.). - ISSN 0372-2929.
Аннотация: Метод магнетронного распыления с использованием дугового разряда является одним из самых современных и высокопроизводительных методов получения наноразмерных пленок, особенно металлических и, в частности, пленок титана и меди. Катодные пятна, образующиеся при дуговом разряде, являются центрами последнего и реализуют каналы прохождения тока от катода к аноду в виде плотных плазменных струй материала катода, образуя так называемый плазменный факел. Энергия ионов там выше, чем при обычном магнетронном распылении, что обеспечивает существенно лучшую адгезию получаемых пленок. При этом наноразмерные пленки титана часто используют для создания переходных сопрягающих подслоев между подложкой и основной рабочей пленкой. Из неметаллических пленок интересны из нитрида титана. Главным недостатком магнетронного дугового распыления является наличие в плазменном факеле капельной фазы, которая, конденсируясь на подложке, не позволяет реализовывать наноразмерные структуры. Образующиеся микрокапли обычно электронейтральны, что не позволяет использовать электрические и магнитные поля для их удаления и нейтрализации. Необходима модернизация дугового испарителя, позволяющая за счет исключения капельной фазы из потока наносимого материала наносить тонкопленочные покрытия, включая наноразмерные. С помощью катушки фокусировки формируется плазменный факел, в котором присутствуют как ионы распыляемого вещества, так и его капли. Специальная заслонка избавляет поток напыляемого вещества от прямолетящих капель, а установленная внутри корпуса катушки фокусировки по меньшей мере еще одна заслонка защищает от капель, летящих под углом от катода. Заслонка выполнена в виде усеченного конуса из немагнитного металла, причем диаметр его большего основания равен внутреннему диаметру катушки фокусировки, а меньший диаметр, обращенный в сторону охлаждаемого катода, соответствует удвоенному диаметру заслонки, соосной с охлаждаемым катодом дугового испарителя.
Год издания: 2021
Авторы: Тупик В. А. , Потапов А. А. , Марголин В. И. , Кострин Д. К.
Источник: Цветные металлы
Выпуск: № 6 (942)
Номера страниц: 55-59
Количество экземпляров:
- Читальный зал (ул. Ак. Вавилова, 47Б): свободно 1 из 1 экземпляров
Ключевые слова: дуговые разряды, магнетронное распыление, магнитные поля, медные пленки, металлические пленки, наноразмерные пленки, плазменные факелы, титановые пленки
Рубрики: Физика,
Физика твердого тела. Кристаллография в целом
Физика твердого тела. Кристаллография в целом
ISSN: 0372-2929
Идентификаторы: полочный индекс П 764, шифр /П 764-482806